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本文標(biāo)題:"形狀類似于掃描電子顯微鏡分析顯微鏡"

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形狀類似于掃描電子顯微鏡分析顯微鏡

 
   特別是隨著高度集成化的進(jìn)展,對(duì)于大型外存儲(chǔ)器也是可能適用的
。出磁泡材料所必備的恃性。僅僅沿一個(gè)結(jié)晶軸方向易于磁化時(shí),泡的
尺寸會(huì)很小,泡的移動(dòng)速度可能非常高。最初被開發(fā)的是稱為正鐵氧體
的一系列化合物,爾后是人造石榴子石,有希望滿足所提條件。石榴子
石泡轉(zhuǎn)換所必要的能量只不過(guò)為最小型三極管轉(zhuǎn)換能的二百五十分之
   新型石印術(shù)與超LSI(大規(guī)模集成電路)
   小型化與石印術(shù)的最小板有密切關(guān)系,為了實(shí)現(xiàn)超LSI,最小板幅要
求在1微米以下。約0.4微米的紫外線照射光致抗蝕劑,由于照射光線的
衍射效應(yīng)大,1微米的板是困難的。代之以電子束,其波長(zhǎng)為紫外線的幾
千分之一,故其衍射效應(yīng)可忽略不計(jì),1微米以下的板形成圖案,應(yīng)該認(rèn)
為是可能的。電子束照射裝置的形狀類似于掃描電子顯微鏡。基木原
理是:在掩蔽膜(超LSI電路原圖)下的光電倍增管發(fā)出的信號(hào),通過(guò)控制
電子束掃描在試樣上的斷續(xù)來(lái)進(jìn)行電子束致抗鈉劑與光致抗蝕劑一樣,
涂在半導(dǎo)體基板上使用,曾以各式各樣的聚合物進(jìn)行試制。負(fù)型電子束
致抗蝕劑有
 (1)具有環(huán)氧基團(tuán)的聚合物;
 (2)具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的聚合物
 (3)含乙烯基、丙烯基的聚合勃,等等。
 正型電子束致抗蝕劑有
 1)甲基丙烯酸酯系聚合物;
 2)烯砜系聚合物,等等。
 

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